Epitaxie GaN à base de silicium semi-conducteur

Brève description:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. est l'un des principaux fournisseurs de céramiques semi-conductrices avancées et le seul fabricant en Chine à pouvoir fournir simultanément de la céramique de carbure de silicium de haute pureté (en particulier le SiC recristallisé) et un revêtement CVD SiC.De plus, notre société s'engage également dans les domaines céramiques tels que l'alumine, le nitrure d'aluminium, la zircone et le nitrure de silicium, etc.

 

Détail du produit

Mots clés du produit

Epitaxie GaN à base de silicium

Description du produit

Notre société fournit des services de processus de revêtement SiC par méthode CVD sur la surface du graphite, de la céramique et d'autres matériaux, de sorte que des gaz spéciaux contenant du carbone et du silicium réagissent à haute température pour obtenir des molécules SiC de haute pureté, des molécules déposées à la surface des matériaux revêtus, formant une couche protectrice SIC.

Caractéristiques principales:

1. Résistance à l’oxydation à haute température :

la résistance à l'oxydation est encore très bonne lorsque la température atteint 1600 C.

2. Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur dans des conditions de chloration à haute température.

3. Résistance à l'érosion : dureté élevée, surface compacte, particules fines.

4. Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure en cristal

Phase β du FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille d'un grain

µm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J·kg-1 ·K-1

640

Température de sublimation

2700

Force de flexion

MPa (RT 4 points)

415

Module d'Young

Gpa (courbure 4pt, 1300℃)

430

Expansion thermique (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300

Lieu de travail Semicera
Lieu de travail Semicera 2
Machine d'équipement
Traitement CNN, nettoyage chimique, revêtement CVD
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