Le support de plaquette 6'' pour Aixtron G5 de Semicera est conçu pour répondre aux exigences exigeantes des processus de croissance épitaxiale dans les systèmes Aixtron G5. Construit avec du graphite de haute qualité, cesupport de plaquetteassure la stabilité et l'uniformité pendant leMCVetProcessus MOCVD, permettant un dépôt précis dans le réacteur épi.
Avec uncéramique de carbure de siliciumrevêtement, le Wafer Carrier 6'' pour Aixtron G5 offre une durabilité et une résistance thermique améliorées, ce qui le rend idéal pour les applications à haute température en croissance épitaxiale. Ce produit est conçu pour prendre en charge efficacementtranchemanipulation et maximiser les performances dans la production de semi-conducteurs.
Chez Semicera, nous nous concentrons sur la fourniture de solutions de premier plan pour l'industrie des semi-conducteurs. Nos supports de plaquettes sont conçus pour être fiables, garantissant un fonctionnement fluide dans les systèmes Aixtron G5 et autresÉpitaxie CVDréacteurs. Que vous travailliez avec du carbure de silicium ou d'autres matériaux, ce support de tranche garantit la précision et la cohérence nécessaires à la fabrication avancée de semi-conducteurs.
Principales caractéristiques :
• Optimisé pour les systèmes Aixtron G5 et autres réacteurs CVD MOCVD.
• Suscepteur en graphite de haute qualité avec un revêtement céramique en carbure de silicium pour une durabilité accrue.
• Idéal pour les processus de croissance épitaxiale nécessitant précision et stabilité thermique.
• Manipulation fiable des plaquettes dans des environnements semi-conducteurs complexes.
Semicera se consacre à fournir des solutions de pointe, garantissant que chaque support de plaquette de 6 pouces répond aux normes les plus élevées pour vos besoins en épitaxie.