Substrat SiC de type N de 4 pouces

Brève description :

Les substrats SiC de type N de 4 pouces de Semicera sont méticuleusement conçus pour des performances électriques et thermiques supérieures dans l'électronique de puissance et les applications haute fréquence. Ces substrats offrent une excellente conductivité et stabilité, ce qui les rend idéaux pour les dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. Faites confiance à Semicera pour la précision et la qualité des matériaux avancés.


Détail du produit

Mots clés du produit

Les substrats SiC de type N de 4 pouces de Semicera sont conçus pour répondre aux normes rigoureuses de l'industrie des semi-conducteurs. Ces substrats constituent une base hautes performances pour une large gamme d'applications électroniques, offrant une conductivité et des propriétés thermiques exceptionnelles.

Le dopage de type N de ces substrats SiC améliore leur conductivité électrique, ce qui les rend particulièrement adaptés aux applications haute puissance et haute fréquence. Cette propriété permet le fonctionnement efficace de dispositifs tels que des diodes, des transistors et des amplificateurs, pour lesquels il est crucial de minimiser les pertes d'énergie.

Semicera utilise des procédés de fabrication de pointe pour garantir que chaque substrat présente une excellente qualité de surface et une excellente uniformité. Cette précision est essentielle pour les applications en électronique de puissance, dans les dispositifs micro-ondes et dans d'autres technologies qui exigent des performances fiables dans des conditions extrêmes.

L'intégration des substrats SiC de type N de Semicera dans votre ligne de production signifie bénéficier de matériaux offrant une dissipation thermique et une stabilité électrique supérieures. Ces substrats sont idéaux pour créer des composants nécessitant durabilité et efficacité, tels que des systèmes de conversion de puissance et des amplificateurs RF.

En choisissant les substrats SiC de type N de 4 pouces de Semicera, vous investissez dans un produit qui combine une science des matériaux innovante et un savoir-faire méticuleux. Semicera continue de dominer l'industrie en fournissant des solutions qui soutiennent le développement de technologies de semi-conducteurs de pointe, garantissant des performances et une fiabilité élevées.

Articles

Production

Recherche

Factice

Paramètres du cristal

Polytype

4H

Erreur d'orientation de la surface

<11-20 >4±0,15°

Paramètres électriques

Dopant

Azote de type n

Résistivité

0,015-0,025ohm·cm

Paramètres mécaniques

Diamètre

150,0 ± 0,2 mm

Épaisseur

350 ± 25 μm

Orientation principale à plat

[1-100]±5°

Longueur à plat primaire

47,5 ± 1,5 mm

Appartement secondaire

Aucun

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Arc

-15 μm ~ 15 μm

-35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

Chaîne

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugosité avant (face Si) (AFM)

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Structure

Densité des microtubes

<1 pièce/cm2

<10 pièce/cm2

<15 pièce/cm2

Impuretés métalliques

≤5E10atomes/cm2

NA

TPB

≤1500 pièce/cm2

≤3000 pièce/cm2

NA

TSD

≤500 pièce/cm2

≤1000 pièce/cm2

NA

Qualité avant

Devant

Si

Finition superficielle

Si-face CMP

Particules

≤60ea/plaquette (taille≥0,3μm)

NA

Rayures

≤5 unités/mm. Longueur cumulée ≤Diamètre

Longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Peau d'orange/piqûres/taches/striations/fissures/contamination

Aucun

NA

Copeaux de bord/empreintes/fracture/plaques hexagonales

Aucun

Zones polytypes

Aucun

Superficie cumulée≤20 %

Superficie cumulée≤30 %

Marquage laser frontal

Aucun

Retour Qualité

Finition arrière

CMP face C

Rayures

≤5ea/mm, longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Défauts arrière (éclats de bord/empreintes)

Aucun

Rugosité du dos

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Marquage laser au dos

1 mm (à partir du bord supérieur)

Bord

Bord

Chanfreiner

Conditionnement

Conditionnement

Epi-ready avec emballage sous vide

Conditionnement de cassettes multi-wafers

*Remarques : « NA » signifie aucune demande. Les éléments non mentionnés peuvent faire référence à SEMI-STD.

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