Suscepteur de plaquette

Suscepteur de plaquetteest un élément essentiel indispensable dans le processus d’épitaxie. Semicera fournit d'excellentes solutions pourSi EpitaxieetEpitaxie SiCprocessus grâce à une conception et une fabrication de précision. Notre Wafer Susceptor assure une répartition uniforme de la chaleur pendant le processus d'épitaxie et améliore la qualité du dépôt de la couche de silicium monocristallin (Monocristalline Silicon). Il fonctionne bien dans différents types deSucepteurs du MOCVDetSuscepteurs de barilet convient à divers processus de fabrication de semi-conducteurs.

SemiceraTrancheLe suscepteur est fabriqué à partir de matériaux à haute résistance avec une excellente résistance aux températures élevées et à la corrosion, et peut rester stable pendant une longue période, même dans des conditions complexes de processus d'épitaxie. Que ce soit dans les processus d'épitaxie Si ou d'épitaxie SiC, le Susceptor de Semicera peut fournir un contrôle précis de la température pour garantir la cohérence de la qualité des tranches pendant la croissance par épitaxie.

De plus, le suscepteur de plaquette de Semicera est également traité avec précision pour s'adapter à une variété d'exigences d'équipement et de spécifications, en particulier dans les applications de suscepteur MOCVD et de suscepteur en baril. Grâce à une excellente sélection des matériaux et un excellent contrôle des processus, nos produits améliorent non seulement l'efficacité de la production, mais réduisent également considérablement le taux de défauts et la consommation d'énergie dans le processus.

Pour les processus d'épitaxie extrêmement exigeants de l'industrie des semi-conducteurs, le Wafer Susceptor de Semikera est votre choix idéal. Que ce soit pour la R&D ou la production de masse, notre suscepteur de tranches peut aider les clients à obtenir une plus grande fiabilité et une meilleure structure cristalline dans les processus d'épitaxie Si et SiC.