Support de cassette de plaquettes

Brève description :

Support de cassette de plaquettes– Assurez le transport sûr et efficace de vos plaquettes avec le support de cassette de plaquettes de Semicera, conçu pour une protection optimale et une facilité de manipulation dans la fabrication de semi-conducteurs.


Détail du produit

Mots clés du produit

Semicera présente leSupport de cassette de plaquettes, une solution essentielle pour la manipulation sécurisée et efficace des plaquettes semi-conductrices. Ce support est conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs, garantissant la protection et l'intégrité de vos plaquettes tout au long du processus de fabrication.

 

Principales caractéristiques :

Construction robuste :LeSupport de cassette de plaquettesest construit à partir de matériaux durables de haute qualité qui résistent aux rigueurs des environnements semi-conducteurs, offrant une protection fiable contre la contamination et les dommages physiques.

Alignement précis :Conçu pour un alignement précis des plaquettes, ce support garantit que les plaquettes sont solidement maintenues en place, minimisant ainsi le risque de désalignement ou de dommages pendant le transport.

Manipulation facile :Conçu de manière ergonomique pour une utilisation facile, le transporteur simplifie le processus de chargement et de déchargement, améliorant ainsi l'efficacité du flux de travail dans les environnements de salle blanche.

Compatibilité:Compatible avec une large gamme de tailles et de types de plaquettes, ce qui le rend polyvalent pour divers besoins de fabrication de semi-conducteurs.

 

Faites l'expérience d'une protection et d'une commodité inégalées avec SemiceraSupport de cassette de plaquettes. Notre support est conçu pour répondre aux normes les plus élevées de fabrication de semi-conducteurs, garantissant que vos plaquettes restent en parfait état du début à la fin. Faites confiance à Semicera pour vous offrir la qualité et la fiabilité dont vous avez besoin pour vos processus les plus critiques.

Articles

Production

Recherche

Factice

Paramètres du cristal

Polytype

4H

Erreur d'orientation de la surface

<11-20 >4±0,15°

Paramètres électriques

Dopant

Azote de type n

Résistivité

0,015-0,025ohm·cm

Paramètres mécaniques

Diamètre

150,0 ± 0,2 mm

Épaisseur

350 ± 25 μm

Orientation principale à plat

[1-100]±5°

Longueur à plat primaire

47,5 ± 1,5 mm

Appartement secondaire

Aucun

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Arc

-15 μm ~ 15 μm

-35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

Chaîne

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugosité avant (face Si) (AFM)

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Structure

Densité des microtubes

<1 pièce/cm2

<10 pièce/cm2

<15 pièce/cm2

Impuretés métalliques

≤5E10atomes/cm2

NA

TPB

≤1500 pièce/cm2

≤3000 pièce/cm2

NA

TSD

≤500 pièce/cm2

≤1000 pièce/cm2

NA

Qualité avant

Devant

Si

Finition superficielle

Si-face CMP

Particules

≤60ea/plaquette (taille≥0,3μm)

NA

Rayures

≤5 unités/mm. Longueur cumulée ≤Diamètre

Longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Peau d'orange/piqûres/taches/striations/fissures/contamination

Aucun

NA

Copeaux de bord/empreintes/fracture/plaques hexagonales

Aucun

Zones polytypes

Aucun

Superficie cumulée≤20 %

Superficie cumulée≤30 %

Marquage laser frontal

Aucun

Retour Qualité

Finition arrière

CMP face C

Rayures

≤5ea/mm, longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Défauts arrière (éclats de bord/empreintes)

Aucun

Rugosité du dos

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Marquage laser au dos

1 mm (à partir du bord supérieur)

Bord

Bord

Chanfreiner

Conditionnement

Conditionnement

Epi-ready avec emballage sous vide

Conditionnement de cassettes multi-wafers

*Remarques : « NA » signifie aucune demande. Les éléments non mentionnés peuvent faire référence à SEMI-STD.

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plaquettes SiC

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