Revêtement CVD TaC

Introduction au revêtement CVD TaC:

Le revêtement CVD TaC est une technologie qui utilise le dépôt chimique en phase vapeur pour déposer un revêtement en carbure de tantale (TaC) sur la surface d'un substrat. Le carbure de tantale est un matériau céramique haute performance doté d'excellentes propriétés mécaniques et chimiques. Le processus CVD génère un film TaC uniforme sur la surface du substrat par réaction gazeuse.

Principales caractéristiques:

Excellente dureté et résistance à l'usure: Le carbure de tantale a une dureté extrêmement élevée et le revêtement CVD TaC peut améliorer considérablement la résistance à l'usure du substrat. Cela rend le revêtement idéal pour les applications dans des environnements à forte usure, tels que les outils de coupe et les moules.

Stabilité à haute température: Les revêtements TaC protègent les composants critiques du four et du réacteur à des températures allant jusqu'à 2 200 °C, démontrant une bonne stabilité. Il maintient sa stabilité chimique et mécanique dans des conditions de température extrêmes, ce qui le rend adapté au traitement à haute température et aux applications dans des environnements à haute température.

Excellente stabilité chimique: Le carbure de tantale a une forte résistance à la corrosion à la plupart des acides et des alcalis, et le revêtement CVD TaC peut prévenir efficacement les dommages au substrat dans des environnements corrosifs.

Point de fusion élevé: Le carbure de tantale a un point de fusion élevé (environ 3880°C), permettant au revêtement CVD TaC d'être utilisé dans des conditions de températures extrêmement élevées sans fondre ni se dégrader.

Excellente conductivité thermique: Le revêtement TaC a une conductivité thermique élevée, ce qui aide à dissiper efficacement la chaleur dans les processus à haute température et à éviter une surchauffe locale.

Applications potentielles:

• Composants de réacteurs CVD épitaxiaux en nitrure de gallium (GaN) et en carbure de silicium, notamment des supports de tranches, des antennes paraboliques, des pommes de douche, des plafonds et des suscepteurs.

• Composants de croissance cristalline en carbure de silicium, nitrure de gallium et nitrure d'aluminium (AlN), notamment creusets, porte-graines, anneaux de guidage et filtres.

• Composants industriels, notamment éléments chauffants à résistance, buses d'injection, anneaux de masquage et gabarits de brasage

Fonctionnalités des applications:

• Température stable au-dessus de 2 000 °C, permettant un fonctionnement à des températures extrêmes
•Résistant à l'hydrogène (Hz), à l'ammoniac (NH3), au monosilane (SiH4) et au silicium (Si), offrant une protection dans les environnements chimiques difficiles
• Sa résistance aux chocs thermiques permet des cycles de fonctionnement plus rapides
• Le graphite a une forte adhérence, garantissant une longue durée de vie et aucune délamination du revêtement.
• Ultra-haute pureté pour éliminer les impuretés ou contaminants inutiles
• Couverture de revêtement conforme à des tolérances dimensionnelles serrées

Spécifications techniques:

Préparation de revêtements denses en carbure de tantale par CVD：

Revêtement TAC à haute cristallinité et excellente uniformité :

Paramètres techniques du revêtement CVD TAC_Semicera :

Les valeurs ci-dessus sont typiques.