Anneaux à trois segments en graphite revêtus de TaC

Brève description :

Le carbure de silicium (SiC) est un matériau clé dans la troisième génération de semi-conducteurs, mais son taux de rendement constitue un facteur limitant pour la croissance de l'industrie. Après des tests approfondis dans les laboratoires de Semicera, il a été constaté que le TaC pulvérisé et fritté n'avait pas la pureté et l'uniformité nécessaires. En revanche, le procédé CVD garantit un niveau de pureté de 5 PPM et une excellente uniformité. L'utilisation du CVD TaC améliore considérablement le taux de rendement des tranches de carbure de silicium. Nous sommes ouverts aux discussionsAnneaux à trois segments en graphite revêtus de TaC pour réduire davantage les coûts des plaquettes SiC.

 


Détail du produit

Mots clés du produit

Semicera fournit des revêtements spécialisés en carbure de tantale (TaC) pour divers composants et supports.Le procédé de revêtement de pointe Semicera permet aux revêtements en carbure de tantale (TaC) d'atteindre une pureté élevée, une stabilité à haute température et une tolérance chimique élevée, améliorant ainsi la qualité des produits des cristaux SIC/GAN et des couches EPI (Suscepteur TaC recouvert de graphite) et prolonger la durée de vie des composants clés du réacteur. L'utilisation du revêtement TaC en carbure de tantale vise à résoudre le problème des bords et à améliorer la qualité de la croissance cristalline, et Semicera a résolu de manière révolutionnaire la technologie de revêtement en carbure de tantale (CVD), atteignant le niveau avancé international.

 

Le carbure de silicium (SiC) est un matériau clé dans la troisième génération de semi-conducteurs, mais son taux de rendement constitue un facteur limitant pour la croissance de l'industrie. Après des tests approfondis dans les laboratoires de Semicera, il a été constaté que le TaC pulvérisé et fritté n'avait pas la pureté et l'uniformité nécessaires. En revanche, le procédé CVD garantit un niveau de pureté de 5 PPM et une excellente uniformité. L'utilisation du CVD TaC améliore considérablement le taux de rendement des tranches de carbure de silicium. Nous sommes ouverts aux discussionsAnneaux à trois segments en graphite revêtus de TaC pour réduire davantage les coûts des plaquettes SiC.

Après des années de développement, Semicera a conquis la technologie deTaC MCVavec les efforts conjoints du département R&D. Il est facile de constater des défauts lors du processus de croissance des plaquettes SiC, mais après utilisationTaC, la différence est significative. Vous trouverez ci-dessous une comparaison des plaquettes avec et sans TaC, ainsi que des pièces Simicera pour la croissance monocristalline.

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avec et sans TaC

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Après avoir utilisé TaC (à droite)

De plus, SemiceraProduits revêtus de TaCprésentent une durée de vie plus longue et une plus grande résistance aux températures élevées par rapport àRevêtements SiC.Des mesures en laboratoire ont démontré que notreRevêtements TaCpeut fonctionner de manière constante à des températures allant jusqu'à 2 300 degrés Celsius pendant de longues périodes. Vous trouverez ci-dessous quelques exemples de nos échantillons :

 
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Lieu de travail Semicera
Lieu de travail Semicera 2
Machine d'équipement
Entrepôt Semicera
Traitement CNN, nettoyage chimique, revêtement CVD
Notre prestation

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