Substrat céramique de nitrure de silicium

Brève description :

Le substrat céramique en nitrure de silicium de Semicera offre une conductivité thermique exceptionnelle et une résistance mécanique élevée pour les applications électroniques exigeantes. Conçus pour la fiabilité et l'efficacité, ces substrats sont idéaux pour les appareils haute puissance et haute fréquence. Faites confiance à Semicera pour des performances supérieures dans la technologie des substrats céramiques.


Détail du produit

Mots clés du produit

Le substrat céramique de nitrure de silicium de Semicera représente le summum de la technologie avancée des matériaux, offrant une conductivité thermique exceptionnelle et des propriétés mécaniques robustes. Conçu pour les applications hautes performances, ce substrat excelle dans les environnements nécessitant une gestion thermique fiable et une intégrité structurelle.

Nos substrats céramiques en nitrure de silicium sont conçus pour résister à des températures extrêmes et à des conditions difficiles, ce qui les rend idéaux pour les appareils électroniques haute puissance et haute fréquence. Leur conductivité thermique supérieure garantit une dissipation thermique efficace, essentielle au maintien des performances et de la longévité des composants électroniques.

L'engagement de Semicera envers la qualité est évident dans chaque substrat céramique de nitrure de silicium que nous produisons. Chaque substrat est fabriqué à l'aide de processus de pointe pour garantir des performances constantes et un minimum de défauts. Ce haut niveau de précision répond aux exigences rigoureuses d’industries telles que l’automobile, l’aérospatiale et les télécommunications.

En plus de leurs avantages thermiques et mécaniques, nos substrats offrent d'excellentes propriétés d'isolation électrique, qui contribuent à la fiabilité globale de vos appareils électroniques. En réduisant les interférences électriques et en améliorant la stabilité des composants, les substrats céramiques en nitrure de silicium de Semicera jouent un rôle crucial dans l'optimisation des performances des appareils.

Choisir le substrat céramique en nitrure de silicium de Semicera, c'est investir dans un produit qui offre à la fois hautes performances et durabilité. Nos substrats sont conçus pour répondre aux besoins des applications électroniques avancées, garantissant que vos appareils bénéficient d'une technologie matérielle de pointe et d'une fiabilité exceptionnelle.

Articles

Production

Recherche

Factice

Paramètres du cristal

Polytype

4H

Erreur d'orientation de la surface

<11-20 >4±0,15°

Paramètres électriques

Dopant

Azote de type n

Résistivité

0,015-0,025ohm·cm

Paramètres mécaniques

Diamètre

150,0 ± 0,2 mm

Épaisseur

350 ± 25 μm

Orientation principale à plat

[1-100]±5°

Longueur à plat primaire

47,5 ± 1,5 mm

Appartement secondaire

Aucun

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Arc

-15 μm ~ 15 μm

-35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

Chaîne

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugosité avant (face Si) (AFM)

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Structure

Densité des microtubes

<1 pièce/cm2

<10 pièce/cm2

<15 pièce/cm2

Impuretés métalliques

≤5E10atomes/cm2

NA

TPB

≤1500 pièce/cm2

≤3000 pièce/cm2

NA

TSD

≤500 pièce/cm2

≤1000 pièce/cm2

NA

Qualité avant

Devant

Si

Finition superficielle

Si-face CMP

Particules

≤60ea/plaquette (taille≥0,3μm)

NA

Rayures

≤5 unités/mm. Longueur cumulée ≤Diamètre

Longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Peau d'orange/piqûres/taches/striations/fissures/contamination

Aucun

NA

Copeaux de bord/empreintes/fracture/plaques hexagonales

Aucun

Zones polytypes

Aucun

Superficie cumulée≤20 %

Superficie cumulée≤30 %

Marquage laser frontal

Aucun

Retour Qualité

Finition arrière

CMP face C

Rayures

≤5ea/mm, longueur cumulée≤2*Diamètre

NA

Défauts arrière (éclats de bord/empreintes)

Aucun

Rugosité du dos

Ra≤0,2 nm (5 μm*5 μm)

Marquage laser au dos

1 mm (à partir du bord supérieur)

Bord

Bord

Chanfreiner

Conditionnement

Conditionnement

Epi-ready avec emballage sous vide

Conditionnement de cassettes multi-wafers

*Remarques : « NA » signifie aucune demande. Les éléments non mentionnés peuvent faire référence à SEMI-STD.

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