Support de traitement PSS pour la transmission de plaquettes de semi-conducteurs

Brève description :

Le support de traitement PSS de Semicera pour la transmission de plaquettes de semi-conducteurs est conçu pour une manipulation et un transfert efficaces des plaquettes de semi-conducteurs pendant les processus de fabrication. Fabriqué à partir de matériaux de haute qualité, ce support garantit un alignement précis, une contamination minimale et un transport fluide des plaquettes. Conçus pour l'industrie des semi-conducteurs, les supports PSS de Semicera améliorent l'efficacité, la fiabilité et le rendement des processus, ce qui en fait un composant essentiel dans les applications de traitement et de manipulation des plaquettes.


Détail du produit

Mots clés du produit

Description du produit

Notre société fournit des services de processus de revêtement SiC par méthode CVD sur la surface du graphite, de la céramique et d'autres matériaux, de sorte que des gaz spéciaux contenant du carbone et du silicium réagissent à haute température pour obtenir des molécules SiC de haute pureté, des molécules déposées à la surface des matériaux revêtus, formant une couche protectrice SIC.

Principales caractéristiques :

1. Résistance à l’oxydation à haute température :

la résistance à l'oxydation est encore très bonne lorsque la température atteint 1600 C.

2. Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur dans des conditions de chloration à haute température.

3. Résistance à l'érosion : dureté élevée, surface compacte, particules fines.

4. Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure cristalline

Phase β du FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille des grains

µm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J·kg-1 ·K-1

640

Température de sublimation

2700

Force de flexion

MPa (RT 4 points)

415

Module de Young

Gpa (courbure 4pt, 1300℃)

430

Expansion thermique (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300

Lieu de travail Semicera
Lieu de travail Semicera 2
Machine d'équipement
Traitement CNN, nettoyage chimique, revêtement CVD
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