Plateaux à broches SiC pour les processus de gravure ICP dans l'industrie LED

Brève description :

Les plateaux à broches SiC de Semicera pour les processus de gravure ICP dans l'industrie LED sont spécialement conçus pour améliorer l'efficacité et la précision des applications de gravure. Fabriqués à partir de carbure de silicium de haute qualité, ces plateaux à broches offrent une excellente stabilité thermique, résistance chimique et résistance mécanique. Idéals pour les conditions exigeantes du processus de fabrication des LED, les plateaux à broches SiC de Semicera garantissent une gravure uniforme, minimisent la contamination et améliorent la fiabilité globale du processus, contribuant ainsi à une production de LED de haute qualité.


Détail du produit

Mots clés du produit

Description du produit

Notre société fournit des services de processus de revêtement SiC par méthode CVD sur la surface du graphite, de la céramique et d'autres matériaux, de sorte que des gaz spéciaux contenant du carbone et du silicium réagissent à haute température pour obtenir des molécules SiC de haute pureté, des molécules déposées à la surface des matériaux revêtus, formant une couche protectrice SIC.

Principales caractéristiques :

1. Résistance à l’oxydation à haute température :

la résistance à l'oxydation est encore très bonne lorsque la température atteint 1600 C.

2. Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur dans des conditions de chloration à haute température.

3. Résistance à l'érosion : dureté élevée, surface compacte, particules fines.

4. Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

Disque gravé en carbure de silicium (2)

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure cristalline

Phase β du FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille des grains

µm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J·kg-1 ·K-1

640

Température de sublimation

2700

Force de flexion

MPa (RT 4 points)

415

Module de Young

Gpa (courbure 4pt, 1300℃)

430

Expansion thermique (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300

Lieu de travail Semicera
Lieu de travail Semicera 2
Machine d'équipement
Traitement CNN, nettoyage chimique, revêtement CVD
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