Anneau SiC CVD en vrac

Brève description :

Les anneaux SiC CVD en vrac utilisent un gaz source de silicium (tel que l'hydrure de silicium) et un gaz source de carbone (tel que le méthane) comme matières premières, réagissant à haute température pour déposer des matériaux SiC de grande taille sur un substrat ou un moule. Ce processus permet au SiC d'être déposé uniformément sur une grande surface, formant ainsi une structure annulaire solide et cohérente.

 


Détail du produit

Mots clés du produit

Pourquoi l'anneau de gravure en carbure de silicium ?

RTPAnneaux CVD SiCsont largement utilisés dans les domaines industriels et scientifiques dans des environnements à haute température et corrosifs. Il joue un rôle important dans la fabrication de semi-conducteurs, l’optoélectronique, les machines de précision et l’industrie chimique. Les applications spécifiques incluent :

1. Fabrication de semi-conducteurs :Anneaux RTP CVD SiCpeut être utilisé pour chauffer et refroidir des équipements semi-conducteurs, offrant un contrôle stable de la température et garantissant la précision et la cohérence du processus.

2. Optoélectronique : En raison de son excellente conductivité thermique et de sa résistance aux températures élevées, RTPAnneaux CVD SiCpeut être utilisé comme matériau de support et de dissipation thermique pour les lasers, les équipements de communication à fibre optique et les composants optiques.

3. Machines de précision : les anneaux RTP CVD SiC peuvent être utilisés pour les instruments et équipements de précision dans des environnements à haute température et corrosifs, tels que les fours à haute température, les appareils à vide et les réacteurs chimiques.

4. Industrie chimique : En raison de leur résistance à la corrosion et de leur stabilité chimique, les anneaux RTP CVD SiC peuvent être utilisés dans les conteneurs, les tuyaux et les réacteurs dans les réactions chimiques et les processus catalytiques.

 

Système épi

Système épi

Système RTP

Système RTP

Système CVD

Système CVD

Performances du produit :

1. Répondez au processus en dessous de 28 nm

2. Super résistance à la corrosion

3. Performances ultra propres

4. Super dureté

5. Haute densité

6. Résistance aux hautes températures

7. Résistance à l'usure

équipement de production de quartz 4

Application du produit :

Les matériaux en carbure de silicium présentent les caractéristiques d'une dureté élevée, d'une résistance à l'usure, d'une résistance à la corrosion et d'une stabilité à haute température. Les produits offrant d'excellentes performances globales sont largement utilisés dans les processus de gravure sèche et de TF/diffusion.

Performances du produit :

1. Répondez au processus en dessous de 28 nm

2. Super résistance à la corrosion

3. Performances ultra propres

4. Super dureté

5. Haute densité

6. Résistance aux hautes températures

7. Résistance à l'usure

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Développement de procédés composites :

Revêtement graphite + Sic

Solide CvD sic

SiC fritté+CVD

SicSiC fritté

Développement de plusieurs types de produits :

Anneau

Tableau

Suscepteur

Pommeau de douche

Lieu de travail Semicera
Lieu de travail Semicera 2
Entrepôt Semicera
Machine d'équipement
Traitement CNN, nettoyage chimique, revêtement CVD
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